最先進的大型空白光罩
在各種各樣的TFT LCD和觸摸屏生產場合中不可或缺的大型空白光罩。
高質量供給最大至G10.5代尺寸。
另外，很早便在擔負新一代的相位移掩膜和半透掩膜的制品化上取得了成功，并得到了很高的評價。
利用公司內部多年的開發設計經驗完善精細化和大型化的制造技術和自動化技術。
大型Cr（鉻）空白光罩
特征
?優秀的低欠陷性
?將PH（孔洞）和Particle（顆粒）等欠陷降低到極致
?微細Pattern的光罩也可以放心使用
?優越的光學特性
?面內特性偏差極小、極穩定
光阻涂布
（暫無）
尺寸
最大對應至1620mm x 1780mm
大型位相移掩膜版
低反射光罩的先驅
為FPD制造帶來革新的相位移空白光罩
我司作為其開拓者、頂級供應商前進著。
大型半透空白掩膜版
從低透過率到高透過率皆可生產
用于降低FPD面板制造成本的半透空白掩膜版。
我司是半透空白掩膜版的頂級供應商。尺寸和透過率都可以根據客戶的需求，廣泛而細致的對應。
尺寸
最大對應至半透空白掩膜版的世界級最大尺寸：1620mm x 1780mm